(Ti,Al)N films were grown on a susbtrate of stainless steel by means PAPVD by controlled pulsed cathodic arc technique usinga target of TiAl (50/50 % atomic) in an Ar + N atmosphere. The coatings were deposited at different temperatures of the substrate, room temperature, 50 C and 100 C. The films were characterized structurally by means X-ray diffraction (XRD). With the purpose of determining microstrain, crystallite size and lattice parameter in function of the substrate temperature was used Rietveld method with PVII and SPV fitting funtions. The morphology study was made by means of atomic force microscopy (AFM), obtaining results about roughness and grain size.The results show that (200) orientation has more intensity than other planes and it keeps for different temperatures. The roughness diminishes with the increment of the substrate temperature.Películas del (Ti,Al)N fueron crecidas sobre un sustrato deacero inoxidable por la técnica PAPVD por arco pulsado controlado usando un blanco de TiAl (50/50 % atómico) con atmósfera Ar + N Se crecieron a diferentes temperaturas del sustrato, a temperatura ambiente, 50 C y 100 C. Los recubrimientos fueron caracterizados estructuralmente con difracción de rayos X (XRD), con el fin de determinar las microtensiones, el tamaño del cristalito y el parámetro de red; en función de la temperatura del sustrato se utilizó el método Rietveld con funciones de ajuste PVII y SPV. La caracterización morfológica se realizó con la técnica de microscopia de fuerza atómica (AFM), obteniendo resultados de rugosidad y tamaño de grano. Los resultados muestran que la orientación (200) es el plano de mayor intensidad que se mantiene para las diferentes temperaturas. La rugosidad de la película decrece a medida que la temperatura del sustrato aumenta.